Hitachi - OE750

합금 분석을 위한 탁상형 광학 방출 분광기(OES)

Name: Hitachi - OE750
Rating: 4.7 (132 reviews)

Hitachi - OE750

매우 높은 정밀도를 갖춘 실험실용 OE750 분광광도계는 매우 넓은 분석 파장 범위(119~766nm)를 가지고 있습니다.

탄소(C) , 황(S)을 포함한 35개 이상의 원소 (합금 유형에 따라 다름) 를 매우 낮은 검출 한계(2ppm) 로 감지합니다 .
티타늄, 스테인리스강 등 특수합금에 함유된 가스 원소(O, H, N) 분석
고해상도 멀티 CMOS 광학 시스템 : 전체 스펙트럼을 커버하며 모든 합금 기판(Fe, Al, Cu, Ni, Ti, Mg 등)에 대해 정확합니다.

GRADE 데이터베이스 : DIN/EN, ASTM, AISI, JIS, GOST 표준 과 비교한 70개국의 350,000 개 이상의 합금 등급 ...
1,500만 개의 합금 이름 : 재료를 자동으로 인식하여 생산 및 검사를 위한 빠른 조회를 지원합니다.

높은 감도 (10ppm에서 검출) 로 합금 성분(철, 강철, 스테인리스 강철, 알루미늄, 구리, 니켈, 티타늄, Mg, Co, Pb, Sn, Zn)을 정확하게 분석합니다 .
매우 낮은 검출 한계(LOD) 로 합금 원소, 불순물, 미량 원소(H, O, N) 및 부수 원소를 결정합니다 .

개요
크기	425mm x 760mm x 535mm(폭x깊이x높이)
전원 공급 장치	100~240V AC(50/60Hz)
대량의	88kg
전력 소비량	최대 430W
대기 전력 소모량	45W(50W 소스 켜짐)
아르곤 가스
청정	최소 4.8
입구 압력	3 바
광학 시스템
광학 시스템	Paschen-Runge 장착 원리에 따르면

	광학실로 빛을 직접 전달합니다.
분석 파장 범위	119~670nm(766nm까지 확장 가능)
감지기	최적화된 픽셀 해상도를 갖춘 멀티 CMOS 센서(칩당 4096픽셀)
차이
초점거리	400mm
그루브 밀도
진공 시스템	이 펌프는 700W의 용량을 가지고 있으며, 소음과 발열이 적고 펌프 유지관리가 필요 없습니다.
진공 시스템	차단 밸브를 통해 연결되어 광학 창의 유지 관리 및 교체가 쉽습니다.
플라즈마 발생기	더 나은 샘플 연소를 위한 고에너지 전기 스파크(HEPS) 기술
	소프트웨어를 사용하여 매개변수 설정
	주파수: 80~1000Hz
	전압: 250~500V
샘플 클램프 세트	샘플 클램핑 세트는 3차원 개방형 구조를 가지고 있어 다양한 크기의 샘플을 고정할 수 있습니다.
	작은 시료와 복잡한 형상의 시료를 처리하기 위한 제트 스트림 전극 구조. 최적화된 아르곤 소비량 최소화.
	다중 조절 가능 샘플 클램프
	커버 플레이트는 다른 모델에 맞게 교체 가능합니다.
소수의 인수분해의 극한	C: 2ppm; B: 1ppm; Si: 5ppm; P: 2ppm; S: 2ppm; Mg: 1ppm; N: 5ppm; O: 10ppm;